核心技術
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成果與核心技術 |
技術內容簡述 |
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陽極處理製程關鍵技術 |
包含電流密度、溫度、電壓-電流曲線、陽極處理液流場的設定;已獲得台灣專利(中華民國發明專利，第I434961號專利，表面處理系統及其用途)。 |
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陽極處理膜顯微結構分析技術 |
包含陽極膜的成份、微裂痕、奈米管結構分析;已獲得台灣專利(1.中華民國發明專利，第I362756號專利，具有雙層奈米管結構之染料敏化太陽能電池及其製造方法、中華民國發明專利，第I365544號專利，2.染料敏化太陽能電池結構及其製造方法、3.中華民國發明專利，第I383511號專利，可撓式染料敏化太陽能電池之電化學製造方法)。 |
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陽極處理相關治具設計與製作技術 |
包含陽極處理時工件的電場分佈與工件局部溫度的控制;已獲得台灣專利(1.中華民國發明專利，第I364465號專利，電化學模具、2.中華民國發明專利，第I554650號專利，一種具有冷卻功能的電化學治具)。 |
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陽極處理電極掛架設計與製作技術 |
包含工件局部電流密度的控制與輔助電極的設計;已獲得台灣專利(中華民國發明專利，第I480428號專利，一種適用於發光二極體之二次光學鏡或太陽能電池的折射或聚光鏡之局部表面處理用模具)。 |
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陽極處理槽體設計與製作技術 |
包含槽體形狀、尺寸、材質與冷卻能力的設計 |
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陽極處理產線規畫技術 |
包含除油、除油水洗、鹼蝕水洗、鹼蝕、出光、出光水洗、陽極氧化、氧化水洗、著色、著色水洗、電泳、電泳水洗、封孔、封孔水洗、風乾等步驟。 |
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陽極處理產品良率提升技術 |
包含膜厚(μm)、表面色澤 (L、a、b值)、表面粗糙度(Ra, μm)、耐電壓值(V)、硬度(HV)、耐磨耗量(g/cm2)、管胞顯微結構、與管胞封口率(%)等技術;已獲得台灣專利(中華民國發明專利，第I458962號專利，檢測元件及其製造方法與用途)。 |
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不同鋁合金陽極處理參數設定技術 |
包含電解液成份 (wt. %)、電流-電壓曲線的樣式、溫度(oC)、電流密度(A/dm2)、時間(min)、最終電壓(V)、效率(η, %)、與電量(Q)等參數的設定;已獲得台灣專利(1.中華民國發明專利，第I262221號專利，製造奈米線的方法與儀器、2.中華民國發明專利，第I285225號專利，具陣列式奈米孔洞之氧化鋁薄膜的製造方法 )。 |
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陽極處理材表面前處理與後處理技術 |
包含工件消除應力、清洗、表面拋光(或粗化)、封孔技術中華民國發明專利，第I588300號專利;已獲得台灣專利(利用真空與噴射蒸氣對陽極氧化膜封孔的封孔設備及其方法)。 |
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陽極處理缺陷與失敗原因分析技術 |
包含電解槽設計、治具設計、陽極處理設定等技術;已獲得台灣專利(1.中華民國發明專利，第I564142號專利，一種表面具有純鋁貼合的鋁合金基材、2.中華民國發明專利，第I590502號專利，一種管狀太陽能電池、中華民國發明專利，第I627316號專利，3.一種具有奈米或次微米孔洞的管狀鋁陽極處理膜的製作方法)。 |
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陽極處理技術產品應用 |
包含在生醫領域和能源領域的應用;已獲得台灣專利與美國專利(1.中華民國發明專利，第I243752號專利 以離心方式製作奈米材料及所製得之奈米球及奈米線、2.中華民國發明專利，第I295598號專利 奈米金屬球的製造裝置及方法與奈米金屬粉末、3.中華民國發明專利，第I352661號專利 具有表面自我清潔特性之結構及其製造方法、4.中華民國發明專利，第I428182號專利，用於水處理的光觸媒抗菌板及其製造方法、5.中華民國發明專利，第I475583號專利，一種奈米金屬線固態電容器結構與製造方法、6.中華民國發明專利，第I476143號專利，具有次微米柱狀排列的閃爍晶體結構與製造方法、7.美國發明專利，US 9316742 B2 ，Ordering structure of scintillator and fabrication method、8.美國發明專利，US9551793 B2，Ordering structure of scintillator and fabrication method)。 |